Texas Instruments DLPLCRC410EVM DLP评估模块 (EVM)
Texas Instruments DLPLCRC410EVM DLP评估模块 (EVM) 可搭配五种其他基于DMD的评估模块中的一款使用。该平台可展示先进的光控,适用于光刻、3D打印(SLS和SLA)、机器视觉以及打标和编码等应用。该评估模块可评估新的客户照明源、光学、算法和曝光过程, 从而加快潜在的DLP技术评估过程,缩短客户学习周期并加快产品上市速度。
特性
- 5种不同DMD(DLPLCR65N、DLP7000、DLP7000UV、DLP9500和DLP9500UV)之一的光控制
- 二进制图形速率高达32kHz
- 灰度图形速率高达1.9kHz
- 400Mhz时钟速率下的2xLVDS DDR输入数据接口
- 支持对DMD行进行随机行寻址
相关开发工具
设计用于使用850-2000nm近红外 (NIR) 照明光源的应用。
包括DLP7000 0.7 XGA 2xLVDS A型DMD(内含1076x768微镜,间距为13.6µm)。
包括DLP7000UV 0.7 XGA 2xLVDS DMD(内含1076x768微镜,间距为13.6µm)。
包含DLP9500,一款0.95 1080p 2xLVDS DMD(内含超过200万个微镜,间距为10.8µm)。
包含DLP9500UV,一款0.95 1080p 2xLVDS DMD(内含超过200万个微镜,间距为10.8µm)。
发布日期: 2019-02-11
| 更新日期: 2023-06-22