EPCOS / TDK CeraLink®电容器

TDK CeraLink®电容器采用获得专利的抗铁电电容器技术,该技术基于电容随电压的增加而变大的材料。该技术使得这些电容器非常适合用于缓冲电路应用。该器件具有低ESL和ESR特性,同时支持更高开关频率以及采用性能更稳健的半导体(高速IGBT对比MOSFET)。TDK CeraLink电容器的制造复杂性更低,开关频率高,芯片面积通常比超级结MOSFET小,因此具有理想的高性价比。这类解决方案的成本比MOSFET解决方案低。仅用于系统集成时,这些电容器降低了半导体因系统方法引起的峰值过压而受损的风险。该缓冲功能使这些半导体保持在安全工作区。

CeraLink产品组合

EPCOS / TDK CeraLink®电容器

EPCOS CeraLink电容器是一套高度紧凑的解决方案,用于基于SiC和GaN半导体的快速开关转换器的缓冲电路和直流链路。这些器件采用锆钛酸镧铅 (PLZT) 陶瓷材料。与传统陶瓷电容器相比,CeraLink产品在应用电压下具有最大电容,电容甚至还随纹波电压的增加而成比例增加。

提供四种CeraLink设计。薄型 (LP) 系列的电容范围为0.25µF至1µF,额定电压范围为500VDC至900VDC。焊接引脚 (SP) 版本的电容范围为5µF至20µF,额定电压范围为500VDC至900VDC。柔性组件 (FA) 器件的电容范围为0.25µF至10µF,额定电压范围为500VDC至900VDC。这些表面贴装 (SMD) 器件的额定电容为0.25uF,额定电压为500VDC

特性

  • 高电容密度
  • 极低ESR和低ESL
  • ESR随温度变化大幅降低
  • 大电流密度、有效纹波电压降低能力
  • 有效电容随电压上升而增加
  • 能够进行高温漂移
  • 高频下损耗低
  • 支持快速开关半导体
  • 支持在系统层面进一步缩小电动电子产品
  • 适用于高达和高于10MHz的开关频率
  • 铜内部电极材料特性有助于高频开关和低损耗,可加快压摆速度,提高Imax。
  • 由于材料选择,漏电流超低
  • 随频率增加,电介质损耗降低
  • 端子用于焊接和现代快速压配技术
  • 随着直流电压向上偏移至工作电压,电容值随之增大
  • 紧凑的外壳,可选择典型电源模块,用于工业和汽车应用
  • 特殊类型,用于集成到电源模块 (IGBT/MOSFET/SiC) 中

规范

  • 绝缘电阻>1GΩ,因此漏电流低,特别是在高温下
  • 极低ESL:<3.5nH
  • 工作温度范围:-40°C至+125°C(短时间高达+150°C),也适合用于SiC和GaN

电容器技术概况

EPCOS / TDK CeraLink®电容器

CeraLink目标应用

EPCOS / TDK CeraLink®电容器

视频

发布日期: 2013-01-10 | 更新日期: 2024-01-05